东方电气申请磁控溅射系统构建方法专利，显著降低了设备制造后的调试成本和结构冗余

国家知识产权局信息显示，东方电气长三角（杭州）创新研究院有限公司;东方电气集团科学技术研究院有限公司申请一项名为“一种磁控溅射系统构建方法”的专利，公开号CN122365892A，申请日期为2026年4月。

专利摘要显示，本发明公开了一种磁控溅射系统构建方法，涉及真空镀膜设备设计技术领域，方法包括：S1，参数化建模，得到腔体内的空间电势分布及工作气体电离特征分布，计算氩离子运动轨迹以确定靶材表面的溅射区域，计算二次电子运动轨迹以用于损伤评估；S2，根据溅射区域计算靶材粒子输运及静态膜厚分布；S3，根据传输机构的运动方式，计算载板动态膜厚分布和镀膜均匀性，基于沉积时间与平均膜厚得到镀膜效率；S4，将镀膜效率、镀膜均匀性和二次电子损伤评估结果与预设设计指标进行比较，迭代优化直至满足指标，输出磁控溅射系统的优化设计参数。解决了多物理场强耦合条件下的建模与计算收敛问题，显著降低了设备制造后的调试成本和结构冗余。

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天眼查资料显示，东方电气长三角（杭州）创新研究院有限公司，成立于2023年，位于杭州市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本10000万人民币。通过天眼查大数据分析，东方电气长三角（杭州）创新研究院有限公司参与招投标项目57次，专利信息119条，此外企业还拥有行政许可2个。